|
|
|
ГОСТ 25196-82
Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования
: действующий
: 04.05.1982
: 30.06.1983
: 06.04.2015
: 06.04.2015
: 16.01.2015
: 01.01.1970
 ГОСТ 25196-82
Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования
Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники
|
